반도체 제조 공정 라인 전원 공급 장치

당사는 반도체 공정라인의 웨이퍼 공급수의 정화공정(초순수공장)의 CEDI에 전력을 공급하는데 사용되는 파워서플라이를 제작하여 제공하고 있습니다.
이는 공급되는 물을 초순수의 물로 전환하는 장치이며 24시간 365일 이상, 2년, 3년을 가용하여도 제품이 문제없이 가동되어 반도체 공정이 멈추지
않도록 하여야 하는 신뢰성과 내구성을 갖춘 제품임을 보여주는 것입니다.
다양한 통신모듈의 제공 또한 시스템을 구축하는 SI 회사에서 손쉽게 장비를 채택하고 사용할 수 있습니다.

주요기능

• 반도체 공정라인 웨이퍼 공급수의 정화공정, 초순수 공장에서 물의 초순수 정류용 전원공급장치

• 소용량 & 대용량의 다양한 용량제공

• 다양한 통신 모듈 탑재 : 로컬 제어 외에 리모트 컨트롤러 아날로그 프로그래밍, RS485, RJ45, 모드버스 RTU 등을 제공

• 독립된 보호기능 탑재

• 소비자 요구에 따른 다채널구성 가능

• 낮은 전압 리플과 노이즈로 정밀한 제어 가능

• 고정밀 측정 기능

사양

• 15Kw 3U 컴팩트 사이즈

• 병렬 처리 R11; 최대 5대, 시리즈 운영 – 2대까지 가능

• 역률 : 0.8 @ 정격 및 460Vac

• 프로그래밍 및 리드백 정확도 : 전압 ±0.1%(전체 범위의)/전류 ±0.4%(전체 범위의)

• OVP, OCP, OTP, FAN Fail, PMP, VA Balance, V-Sens Error, AC Input Fail, Rectifier Fail Protection 기능 탑재

• 치수 : 426mm(W) x 132mm(H) x 670mm(D)

• 중량 : 약 30kg

• 리플 노이즈 : 전압 60mVrms/전류 ±0.1% rms

• 전압 상승/하강 시간 : 상승 100ms 10%~90% 반부하/하강 100ms 90%~10% 반부하

• 전류 상승/하강 시간 : 상승 100ms 10%~90% 반부하/하강 100ms 90%~10% 반부하

• 과도 응답 시간: 0.75%/1ms, 50%~100% 또는 100%~50% 부하 변경 전체 범위의 ±0.75%까지 1ms 이내에 복구

• 효율 : 최대 부하 88% 전압 최대 설정, 50% 부하 80%

• 안정성 : F.S의 0.05%/8시간

적용분야

반도체 공정라인 웨이퍼 공급수의 정화공정, 초순수 공장에서 물의 초순수 정류용 전원공급장치

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